依據(jù)《專利法》的規(guī)定，發(fā)明和適用新型專利申請(qǐng)需要提交專利請(qǐng)求書(shū)、權(quán)力要求書(shū)、說(shuō)明書(shū)(附圖)、摘要(附圖)等文件。

權(quán)力要求書(shū)作為法律文件之一起著至關(guān)關(guān)鍵的作用。它不僅可以明確專利權(quán)的保護(hù)規(guī)模，而且是斷定他人是否侵權(quán)的關(guān)鍵根據(jù)。專利審查和各種侵權(quán)訴訟流程都是基于權(quán)力要求書(shū)提交的技術(shù)計(jì)劃。

由此可見(jiàn)，申請(qǐng)人在撰寫(xiě)權(quán)力要求書(shū)時(shí)，必需掌握以下寫(xiě)作技巧，以進(jìn)一步權(quán)力要求書(shū)的質(zhì)量。

撰寫(xiě)權(quán)力要求書(shū)的方法有很多，應(yīng)與技術(shù)交底資料的內(nèi)容相適應(yīng)。

1、消除無(wú)法保護(hù)的標(biāo)題

在撰寫(xiě)，首先要消除不符合《專利法》第二條發(fā)明或者適用新型定義的標(biāo)題，消除顯著屬于《專利法》第五條或者第二十五條不能授予專利權(quán)的對(duì)象，消除顯著不符合《專利法》第二十二條第四款有關(guān)適用性規(guī)定的標(biāo)題。

2、寫(xiě)作要求

1）權(quán)力要求書(shū)應(yīng)包含獨(dú)立權(quán)力要求和附屬權(quán)力要求。

2）獨(dú)立權(quán)力要求應(yīng)滿足以下要求：

①在合理的前提下具有普遍的保護(hù)規(guī)模，更大限度地反應(yīng)申請(qǐng)人的利益；

②明白、簡(jiǎn)明地限制其保護(hù)規(guī)模；

③記錄解決技術(shù)問(wèn)題的所有必要技術(shù)特征；

④現(xiàn)有技術(shù)新鮮、創(chuàng)造性；

⑤符合《專利法》和《專利法實(shí)行細(xì)則》關(guān)于獨(dú)立權(quán)力要求的其他規(guī)定。

3）附屬權(quán)力要求應(yīng)滿足以下要求：

①附屬權(quán)力要求的數(shù)目恰當(dāng)合理；

②與被引用的權(quán)力要求有明白的邏輯關(guān)系；

③當(dāng)授權(quán)后不得不縮小權(quán)力要求的保護(hù)規(guī)模時(shí)，可以提供足夠的修正空間；

④符合《專利法》和《專利法實(shí)行細(xì)則》關(guān)于附屬權(quán)力要求的其他規(guī)定。

4）撰寫(xiě)多項(xiàng)獨(dú)立權(quán)力要求的，多項(xiàng)獨(dú)立權(quán)力要求應(yīng)該具有單一性。

以上是權(quán)力要求書(shū)的撰寫(xiě)要求，希望對(duì)您有幫助。

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